氩离子抛光系统，以其高效能的离子枪和精细的抛光效果，为材料表面处理提供了一种全新的解决方案。该系统配备了两个具有低能量聚集能力的离子枪，能够实现快速而温和的抛光过程。离子束能量低至100eV，特别适合于需要精细处理的样品，同时保持了抛光效率。

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1. 高效抛光：新型低能聚焦电极保证了离子束直径的恒定，提高了抛光速率。

2. 精准对中：独立调节的离子枪确保了离子束能精确对中样品。

3. 灵活操作：操作者可随时调整枪的角度，并通过触摸屏手动或自动调节气体流量，优化工作电流。

4. 气锁装置：实现快速样品交换，同时维持高真空环境。

5. 全面控制：10英寸触摸屏提供系统控制与监测。

6. 一键操作：配方模式控制界面简化了操作流程。

7. 精确控制：质量流量控制器确保了氩离子电流的精确和可重复性。

8. 耐用设计：离子枪设计无需更换零件，寿命长达30,000小时以上。

9. 样品/挡板配置：简化装样过程，确保再次抛光的准确性。

10. 离子束调制：支持扇形和平面抛光，增加了操作的灵活性。

1. 离子枪：高性能三元构造，无需耗材。

2. 抛光角度：独立调节，范围从+10°至-10°。

3. 离子束能量：可调节范围100 V至8.0 kV。

4. 离子束流密度：峰值达10 mA/cm²。

5. 抛光速度：对硅试样在8.0 kV条件下可达300 μm/h。

6. 样品装载：特制挡板简化装样过程，确保重复使用和位置准确性。

7. 样品旋转：速度0.5至6rpm，连续可调。

8. 束流调制：独特功能支持扇形和平面抛光。

9. 液氮冷台：最低可达-120°C，减少样品损伤。

10. 干泵系统：两级隔膜泵与涡轮分子泵搭配，提供高效抽真空能力。

11. 压力范围：基本压力5x10^-6托，工作压力8.5x10^-5托。

12. 真空规：冷阴极型和固体型，分别用于主样品室和前级机械泵。

13. 样品空气锁：设计独特，更换样品时间短，无需破坏真空环境。

14. 触摸屏控制：10英寸触摸屏，支持全面程序化控制。

氩离子抛光系统广泛应用于EBSD样品制备、截面样品制备，以及金属材料、石油地质岩石矿物、光电材料、化工高分子材料、新能源电池材料和电子半导体器件的表面处理。金鉴实验室作为一家提供检测、鉴定、认证和研发服务的第三方检测与分析机构，在氩离子抛光制样方面拥有丰富的经验和卓越的技术实力。实验室配备了先进的测试设备和严格的质量控制流程，能够为客户提供高标准的氩离子抛光制样服务。

PCB电路版截面抛光SEM图

镀锌钢板截面抛光