氩离子抛光仪的技术原理及主要功能

氩离子抛光仪

利用氩离子抛光技术，通过离子束对样品表面进行削平抛光处理，以便利用扫描电镜等显微观察工具观察样品表面的微观特征。

抛光仪的原理

氩离子抛光技术是对样品表面进行抛光，去除损伤层，从而得到高质量样品，用于在扫描电镜，光镜或者扫描探针显微镜上进行成像、EDS、EBSD、CL、EBIC或其它分析。针对不同的样品的硬度，设置不同的电压、电流、离子枪的角度、离子束窗口，控制氩离子作用的深度、强度、角度、这样较ng准的参数，有利于制备成研究者理想的材料样品，这样的样品不仅表面光滑无损伤，而且还原材料内部的真实结构，正如页岩内部的细微孔隙在扫描电镜下放大到10K时也能看得清清楚楚，以及材料内部的不同物质分层都能看的分界线明显。

切割和抛光两项功能

1、配温控液氮冷却台，去除热效应对样品的损伤，有助于避免抛光过程中产生的热量而导致的样品融化或者结构变化。

2、配碳/铬镀膜，对于同一个样品，可在同一真空环境下完成抛光及镀膜，防止样品氧化，可以用于SEM/FIB导电镀膜样品制作。

制样时的突出优点：

1、对由硬材料和软材料组成的复合材料样品,能够很精细地制作软硬接合部的截面,而使用传统方法制样是很困难的。

2、比FIB方法的抛光面积更大(~1mm以上)。氩离子抛光仪可以运用于各种材料样品(除了液态)的制备，适应大多数材料类型，对大面积、表面或辐照及能量敏感样品尤佳：钢铁、地质、油页岩、锂离子电池、光伏材料、薄膜、半导体、EBSD、生物材料等包括平面抛光与截面抛光。

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