氩离子抛光系统的特点

1. 气锁装置实现快速样品交换、始终保持洁净的高真空状态；

2. 10英寸触摸屏可对系统进行完全控制与监测；

3. 配方模式的控制界面，用于一键操作；

4. 质量流量控制器提供精确和可重复的氩离子电流的控制；

5. 枪电压范围为100V到8000V的三元（阴极、阳极与聚焦极）构造的离子枪；

6. 每个枪的抛光角度可调范围为-10度~10度，增量为0.1度；

7. 扇形抛光角度可变且可程序化，范围从10度~90度；

8. 离子枪无需零件更换，寿命超过30,000小时；

9. 特制样品/挡板配置，装样简单，再次抛光位置准确；

10. 独特的离子束调制功能，可进行扇形抛光和平面抛光；

11. 洁净的真空系统，分子泵与隔膜泵搭配；

12. 操作简单，维护方便。

 抛光前- 俯视SEM图样品 抛光90S后SEM图样品

产品主要技术参数

1. 离子枪

两个配有稀土磁铁的三元构造（阴极、阳极与聚焦极）的离子枪，聚焦离子束设计,高性能无耗材。

2. 抛光角度

 +10° 到 -10° ，每个离子枪可独立调节。

3. 离子束能量

 100 V 到 8.0 kV

4. 离子束流密度

 10 mA/cm2 峰值

5. 抛光速度

 300 μm/h（8.0 kV条件下对于硅试样）

6. 样品装载

 特制的样品挡板, 装样简单，再次抛光位置准确，可重复使用。

7.样品旋转

 0.5到6rpm连续可调。

8.束流调制

 独特的离子束调制功能，可进行扇形截面抛光（扇形角度为10到90度可调）和平面抛光。

9.液氮冷台

 配置液氮冷台，样品最低温度可达-120°C，有效减少离子束对样品造成的损伤。

10.干泵系统

 两级隔膜泵支持80升/秒的涡轮分子泵。

11.压力

 5x10-6 托基本压力，8.5x10-5托工作压力。

12.真空规

 冷阴极型，用于主样品室；固体型，用于前级机械泵。

13.样品空气锁

独特的设计，样品更换时间<1min>，无需破样品室真空。

14.10英寸触摸屏

 操作简单，且能够完全程序化控制所有参数可进行配方操作。

15.配方操作模式：

自定义不同的加工参数组合，实现一键操作。

产品主要应用领域

 EBSD样品制备、截面样品制备

金属材料（合金，镀层）

石油地质岩石矿物、光电材料

化工高分子材料

新能源电池材料、电子半导体器件